退火温度及退火气氛对ZnO薄膜的结构及发光性能的影响

• 作者: 刘渝珍 奎热西 康朝阳 张侠 徐彭寿 王家鸥
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 快速退火 光致发光 X射线光电子能谱 氧空位
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 613-618
• 分类号: O482.31
• 字数: 1541字
• 语种: 中文

摘要

采用脉冲激光沉积技术在Si/蓝宝石衬底上制备了ZnO薄膜,结合快速退火设备研究了不同退火温度(500～900℃)及退火气氛(N2O2)对薄膜的结构及其发光性能的影响.并优化条件得到具有最小半峰全宽及最大晶粒尺寸的薄膜.X射线衍射(XRD)结果表明:氮气氛下退火的ZnO薄膜最佳退火温度为900℃;氧气氛下退火的ZnO薄膜最佳退火温度为800℃.红外(IR)光谱中,退火后Zn-O特征振动峰红移,说明在退火过程中,原子重新排布后占据较低能量位置;同样的退火温度下,氮气氛下退火的薄膜质量更优.同步辐射光电子能谱(synchrotron-based XPS)分别表征了未退火及N2O2:下900℃退火的ZnO薄膜,分峰拟合结果表明氧气氛下退火产生更多的氧空位.结构表征结合光致发光(PL)谱表明绿光的发光峰与氧空位有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐彭寿		70	488	10.0	19.0
2	奎热西	中国科学院高能物理研究所	15	37	4.0	5.0
3	康朝阳		13	59	5.0	7.0
4	王家鸥	中国科学院高能物理研究所	1	11	1.0	1.0