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摘要:
研究了以Met和DMDMH为配位剂的无氰镀银工艺,通过探讨镀液组成及工艺条件对镀层外观质量的影响,确定了最佳电镀工艺.测试了镀液的阴极电流效率、分散能力、覆盖能力,以及银镀层的微观形貌和结合强度等.测试结果表明,该无氰镀银工艺基本达到了氰化物镀银工艺的相关指标,有望成为氰化物镀银的替代工艺.
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关键词云
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文献信息
篇名 以DMDMH和MET为配位剂的无氰镀银工艺研究
来源期刊 表面技术 学科 工学
关键词 DMDMH 蛋氨酸 无氰镀银 配位剂
年,卷(期) 2010,(4) 所属期刊栏目 工艺研究
研究方向 页码范围 59-61,72
页数 分类号 TQ153.1
字数 2842字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-3660.2010.04.018
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杜朝军 南阳理工学院生物与化学工程学院 58 138 7.0 9.0
2 贾晓凤 南阳理工学院生物与化学工程学院 13 49 4.0 6.0
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研究主题发展历程
节点文献
DMDMH
蛋氨酸
无氰镀银
配位剂
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
表面技术
月刊
1001-3660
50-1083/TG
16开
重庆市2331信箱(重庆市九龙破区石桥铺渝州路33号)
78-31
1972
chi
出版文献量(篇)
5547
总下载数(次)
30
总被引数(次)
34163
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