多结化合物电池用p型Ge抛光片清洗技术研究

• 作者: 刘春香 杨洪星 赵权
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: p型锗抛光片 清洗技术 太阳电池 清洗液 晶片
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 764-767
• 分类号: TN305.2
• 字数: 3047字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2010.08.005

摘要

对多结化合物太阳电池用的p型Ge抛光片的清洗技术做了研究.Ge抛光片的清洗可以采用酸性清洗液和碱性清洗液相结合的方式.酸性清洗液的主要作用是去除晶片表面的有机物;碱性清洗液的主要作用是去除晶片表面的颗粒.清洗液的温度和组分影响着抛光片的清洗效果.通过实验结果确定了p型Ge抛光片的清洗方案,采用这一清洗方案清洗的Ge抛光片,表面质量可以达到"开盒即用"的水平.运用晶片清洗机理分析了各种清洗液的功能和作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赵权	中国电子科技集团公司第四十六研究所	30	136	6.0	9.0
2	杨洪星	中国电子科技集团公司第四十六研究所	50	145	6.0	8.0
3	刘春香	中国电子科技集团公司第四十六研究所	18	79	5.0	7.0