高介电材料Y2O3 薄膜的微结构及界面特性的研究

• 作者: 侯建朝 汪洋
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 物理学
• 关键词: Y2O3薄膜 微结构 界面特性
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 1063-1066
• 分类号: O484
• 字数: 2982字
• 语种: 中文

摘要

采用射频反应磁控溅射金属钇耙的方法,在硅衬底成功制备了高介电Y2O3薄膜.并深入研究了Y2O3薄膜的微结构和Y2O3/Si 体系的界面结构在高温退火过程中的变化规律.研究结果表明:在400～500 ℃之间,Y2O3 薄膜有一个从单斜相向立方相的物相结构转变过程.在高温退火过程中,Y2O3/Si有界面层SiO2生成,并且随着退火温度增加,界面层SiO2 的厚度也在逐渐增加.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	汪洋		20	84	5.0	8.0
2	侯建朝		6	3	1.0	1.0