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摘要:
磁控溅射法是制备薄膜材料的重要手段,薄膜属性受其制备参数的制约,诸参数相互关联,共同影响薄膜的沉积、成核及生长.本文在简要介绍了磁控溅射制备薄膜的基本原理及基本流程的基础上,讨论了溅射参数影响薄膜属性的基本规律和作用机理,并简述了使用磁控溅射法制备薄膜的注意事项.
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文献信息
篇名 磁控溅射法中影响薄膜生长的因素及作用机理研究
来源期刊 贵州大学学报(自然科学版) 学科 工学
关键词 磁控溅射 溅射参数 薄膜制备 退火处理 薄膜属性
年,卷(期) 2010,(1) 所属期刊栏目 工程技术科学研究及应用
研究方向 页码范围 62-66
页数 分类号 TN305.92
字数 4783字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1000-5269.2010.01.017
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 谢泉 贵州大学理学院贵州大学新型光电子材料与技术研究所 133 486 12.0 17.0
2 郝正同 贵州大学理学院贵州大学新型光电子材料与技术研究所 7 68 2.0 7.0
6 杨子义 贵州大学理学院贵州大学新型光电子材料与技术研究所 11 68 2.0 8.0
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研究主题发展历程
节点文献
磁控溅射
溅射参数
薄膜制备
退火处理
薄膜属性
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
贵州大学学报(自然科学版)
双月刊
1000-5269
52-5002/N
16开
贵州省贵阳市花溪
1982
chi
出版文献量(篇)
3181
总下载数(次)
5
总被引数(次)
11240
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:the National Natural Science Foundation of China
官方网址:http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:数理科学
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