磁控散体抛光的机理及实验研究

• 作者: 何洋
• 来源期刊: 轻工机械
• 学科: 工学
• 关键词: 抛光 抗剪能力模型 剪切试验 磁控散体
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 新设备·新材料·新方法
• 页码范围: 73-76
• 页数: 4页
• 分类号: TG580.692
• 字数: 3055字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-2895.2010.01.020

摘要

为提高模具自由曲面的抛光效率和抛光质量,提出一种磁控散体抛光方法,通过调节磁场强度,改变抛光头内铁磁散体间的作用力,从而实现抛光头柔度的调节.文章基于莫尔-库伦破坏准则、磁偶极子、弹性力学等理论,推导出铁磁散体抗剪能力的关系式,得到理想状态下的抗剪能力模型.以该模型为基础,通过实验获得了铁磁散体在磁场作用下的抗剪力模型.研究表明,在磁场作用下,铁磁散体的抗剪能力由非磁致抗剪能力、抗剪切力及磁致抗剪能力、抗剪切力两部分组成,其中磁致抗剪能力和抗剪切力与磁场强度、铁磁材料的体积等因素相关.根据上述工程理论模型及磁控散体抛光装置柔度调节原理,设计了磁控散体抛光的原型样机,为实现模具自由曲面高效抛光提供了一种新方法和装置.图5表1参7