低发射率涂层对目标温度影响的数值模拟

• 作者: 何超 吕绪良 潘家亮 王永杰 高小敏
• 来源期刊: 红外技术
• 学科: 工学
• 关键词: 目标 涂层 热模型 发射率
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 材料与器件
• 页码范围: 73-75
• 页数: 3页
• 分类号: TN216
• 字数: 2080字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.02.003

摘要

根据传热学原理,建立了涂层目标的传热模型,计算了一日内目标真实温度和辐射温度随时间的变化以及涂层对目标真实温度和辐射温度的影响,结果表明:涂有低发射率涂层的冷静态目标的真实温度和辐射温度白天都有所降低,尤其是辐射温度,白天降低明显,但真实温度和辐射温度夜间变化都不明显;低发射率涂层对抑制目标红外辐射有一定的作用,而且采用不同发射率级差的涂层实施热斑点是可行的.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕绪良	解放军理工大学工程兵工程学院	95	751	15.0	24.0
2	何超	解放军理工大学工程兵工程学院	16	43	4.0	5.0
3	潘家亮	解放军理工大学工程兵工程学院	3	15	2.0	3.0
4	高小敏	解放军理工大学工程兵工程学院	2	6	1.0	2.0
5	王永杰	解放军理工大学工程兵工程学院	1	6	1.0	1.0