氧气流量对脉冲激光沉积ZnO薄膜的形貌及光学性质影响

• 作者: 吕有明 曹培江 曾玉祥 朱德亮 林传强 柳文军 贾芳 马晓翠
• 来源期刊: 发光学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧气流量 脉冲激光沉积 ZnO薄膜
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 239-242
• 分类号: O472.3|O482.31
• 字数: 2382字
• 语种: 中文

摘要

使用脉冲激光沉积(PLD)方法在石英(SiO2)和单晶Si(111)基底上制备了具有高c轴择优取向的ZnO薄膜.测试结果显示:在30～70 sccm氧气流量范围内,氧气流量50 sccm时制备的ZnO薄膜具有较好的结晶质量、较高的光学透过率(≥80%)、较高的氧含量(～40.71%)、较快的生长速率(～252 nm/h)和较好的发光特性:450～580 nm附近发射峰最弱,同时～378 nm附近的紫外发光峰最强,表明薄膜材料中含有较少的氧空位等缺陷.