超薄Ge单晶抛光片机械强度控制技术

• 作者: 刘春香 吕菲 张伟才 杨洪星 王云彪 赵权
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: 机械强度 锗抛光片 太阳电池 损伤层 砂轮砂粒粒径
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 768-771,786
• 分类号: TN305.2
• 字数: 4126字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2010.08.006

摘要

Ge单晶衬底上制成的化合物太阳能电池,被越来越广泛地应用于空间太阳能领域,超薄Ge抛光的机械强度也越来越受到人们的关注.介绍了一种测试超薄Ge单晶抛光片机械强度的方法.研究了加工工艺对超薄Ge单晶抛光片机械强度的影响,同时指出在太阳电池用超薄Ge单晶抛光片的加工过程中,切割、研磨、磨削、化学腐蚀、抛光等工序对超薄Ge单晶抛光片的机械强度均有着不同程度的影响.研究表明,通过调整磨削砂轮砂粒粒径、化学腐蚀去除厚度和抛光速率等工艺参数,能够有效控制超薄Ge单晶抛光片的机械强度.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	吕菲	中国电子科技集团公司第四十六研究所	24	88	6.0	8.0
2	赵权	中国电子科技集团公司第四十六研究所	30	136	6.0	9.0
3	杨洪星	中国电子科技集团公司第四十六研究所	50	145	6.0	8.0
4	张伟才	中国电子科技集团公司第四十六研究所	22	42	4.0	4.0
5	刘春香	中国电子科技集团公司第四十六研究所	18	79	5.0	7.0
6	王云彪	中国电子科技集团公司第四十六研究所	18	49	4.0	5.0