纳米-Al_2O_3颗粒对镍电结晶初期阶段的影响

• 作者: 刘宇 崔航 胡炜 谭澄宇 郑子樵
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: Ni-Al_2O_3薄膜 电结晶成核 共沉积 I-t 曲线
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 材料科学
• 页码范围: 10-16
• 页数: 7页
• 分类号: TG1
• 字数: 3008字
• 语种: 中文

摘要

利用循环伏安(CV)、计时安培(CA)和电化学阻抗(EIS)研究了纳米Al_2O_3颗粒在不同电位(vs. SCE)下对Ni自硫酸盐镀液在铜基体上电沉积的影响.结果表明,Ni-Al_2O_3体系共沉积的起始电位为:-740 mV左右;在不同的电位下,纳米-Al_2O_3颗粒对镍沉积过程的影响有所差别;在电位-740~ -830 mV范围,与纯Ni沉积相比较,Ni-Al_2O_3体系沉积的峰电流所对应的孕育期tm明显缩短,反映Al_2O_3颗粒在阴极表面有利于镍沉积成核,且促进了电结晶成核.Al_2O_3颗粒吸附在阴极表面可能会阻碍部分离子电荷放电和物质传输过程,尤其在电位-250~ -650 mV范围,致使Ni-Al_2O_3体系沉积阻抗增加.在较高的过电位下,Al_2O_3颗粒的促进作用有所减弱,许多颗粒堆积在电极表面上还可能减小Ni-Al_2O_3沉积的还原反应电流.在电位-890 mV,Ni-Al_2O_3体系电沉积初期阶段的成核过程基本遵循三维的Scharifker-Hill瞬时成核模式.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郑子樵		223	3915	30.0	50.0
2	刘宇		70	565	13.0	21.0
3	胡炜		10	44	5.0	6.0
4	谭澄宇		39	512	11.0	21.0
5	崔航		7	42	5.0	6.0