InGaAs/InP材料的MOCVD生长研究

• 作者: 刘英斌 林琳 赵润 郑晓光 陈宏泰
• 来源期刊: 半导体技术
• 学科: 工学
• 关键词: InGaAs 单原子层 台阶聚集 界面 金属有机物化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 技术专栏(新型半导体材料)
• 页码范围: 113-115,120
• 页数: 4页
• 分类号: TN304.055
• 字数: 2190字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-353x.2010.02.004

摘要

研究了InGaAs/InP材料的MOCVD生长技术和材料的性能特征.InP衬底的晶向偏角能够明显影响外延生长模型以及外延层的表面形貌,用原子力显微镜(AFM)观察到了外延层表面原子台阶的聚集现象(step-bunching现象),通过晶体表面的原子台阶密度和二维生长模型解释了台阶聚集现象的形成.对外延材料进行化学腐蚀,通过双晶X射线衍射(DCXRD)分析发现异质结界面存在应力,用异质结界面岛状InAs富集解释了应力的产生.通过严格控制InGaAs材料的晶格匹配,并优化MOCVD外延生长工艺,制备出厚层InGaAs外延材料,获得了低于1×10~(15)cm~(-3)的背景载流子浓度和良好的晶体质量.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘英斌	中国电子科技集团公司第十三研究所	10	54	5.0	7.0
2	林琳	中国电子科技集团公司第十三研究所	21	58	6.0	7.0
3	陈宏泰	中国电子科技集团公司第十三研究所	25	102	6.0	8.0
4	赵润	中国电子科技集团公司第十三研究所	18	45	5.0	5.0
5	郑晓光	中国电子科技集团公司第十三研究所	2	12	2.0	2.0