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摘要:
为了研究相干合成系统发光单元的偏振方向对相干合成远场光强分布的影响,以1维线性分布的阵列为例,利用傅里叶方法分析得到了单个发光单元的偏振方向偏离时相干合成的远场光强的解析表达式.数值计算结果表明:光源偏振方向的偏离使得远场中心光斑的峰值光强减小,光强的最小值不再为零,次瓣所包含的能量增大,但图样仍成对称性分布.对于5个单元合成系统,当单个发光单元偏振方向偏离π/2时,峰值光强减小到原来的68%左右.
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文献信息
篇名 偏振方向对阵列光束远场能量分布的影响
来源期刊 强激光与粒子束 学科 工学
关键词 相干合成 偏振方向 中心光斑能量 峰值光强
年,卷(期) 2010,(7) 所属期刊栏目 高功率激光与光学
研究方向 页码范围 1445-1448
页数 分类号 TN248
字数 2227字 语种 中文
DOI 10.3788/HPLPB20102207.1445
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 孙年春 四川大学电子信息学院 50 157 6.0 10.0
2 张蓉竹 四川大学电子信息学院 107 573 10.0 20.0
3 任爱红 四川大学电子信息学院 3 7 2.0 2.0
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相干合成
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中心光斑能量
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研究起点
研究来源
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引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
强激光与粒子束
月刊
1001-4322
51-1311/O4
大16开
四川绵阳919-805信箱
62-76
1989
chi
出版文献量(篇)
9833
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7
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61664
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