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摘要:
MOS电阻阵非均匀性校正一直是基于MOS电阻阵的场景产生器研究和发展的关键问题和前沿技术.在对128×128像元MOS电阻阵实验的基础上,分析了其非线性和非均匀性产生的原因,并提出了非均匀性校正算法.首先在MOS电阻阵中覆盖矩阵栅格,建立线性修正表格,然后通过采集校正后数据建立补偿表格,迭代这个修正过程完成校正补偿工作.实验结果表明非均匀性校正算法可行,校正后的红外图像均匀性有较大提高,较好地满足了红外成像制导仿真需求.
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文献信息
篇名 128×128像元MOS电阻阵非均匀性校正算法研究
来源期刊 红外技术 学科 航空航天
关键词 MOS电阻阵 非均匀性校正 场景产生器 红外成像仿真
年,卷(期) 2010,(2) 所属期刊栏目 材料与器件
研究方向 页码范围 68-72
页数 5页 分类号 V448.25
字数 2280字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-8891.2010.02.002
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 闫杰 西北工业大学航天学院飞行控制与仿真技术研究所 207 1172 16.0 23.0
2 王建华 空军工程大学理学院 4 79 3.0 4.0
3 孙嗣良 西北工业大学航天学院飞行控制与仿真技术研究所 10 75 4.0 8.0
4 陈韧 西北工业大学航天学院飞行控制与仿真技术研究所 3 6 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
MOS电阻阵
非均匀性校正
场景产生器
红外成像仿真
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
红外技术
月刊
1001-8891
53-1053/TN
大16开
昆明市教场东路31号《红外技术》编辑部
64-26
1979
chi
出版文献量(篇)
3361
总下载数(次)
13
总被引数(次)
30858
论文1v1指导