Ti-O薄膜中O含量对紫外光-可见光吸收的影响

• 作者: 万维威 何翔 孙奉娄
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 物理学
• 关键词: Ti-O薄膜 射频磁控溅射 禁带宽度 红移
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 试验研究
• 页码范围: 45-47
• 页数: 3页
• 分类号: O484.4
• 字数: 3164字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2010.01.013

摘要

应用射频磁控溅射技术在普通载玻片上镀制一层均匀的Ti-O薄膜,采用红外光谱仪对其进行红外吸收光谱分析,采用紫外光-可见光分光光度计测量其吸光度,得到了在不同O含量条件下制备的Ti-O薄膜对紫外光-可见光的吸收情况,并进行了比较.实验结果表明:随着O含量的逐渐减少,Ti-O薄膜的结构从TiO_2逐渐转变为多种Ti-O结构共存,并且其吸收峰出现红移现象.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙奉娄		76	434	13.0	15.0
2	何翔		62	386	11.0	15.0
3	万维威		1	4	1.0	1.0