CoFe_2O_4薄膜厚度对其微结构和磁性能的影响

• 作者: 于永杰 张亚磊 杨成韬 解群眺
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: sol-gel旋涂法 CFO薄膜厚度 微结构 磁性能
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 1-3
• 页数: 3页
• 分类号: O484
• 字数: 2584字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2010.02.001

摘要

以铁和钴的硝酸盐为主要原料,采用sol-gel旋涂法在Si(001)基片上制备了不同厚度的CoFe_2O_4(CFO)薄膜.研究了薄膜厚度对其结构、形貌及磁性能的影响.结果表明:随着其厚度的增大,薄膜的结晶度变好,薄膜晶粒度逐渐增大到70 nm.M_s随着薄膜厚度的增大先增大后减小;H_c的变化规律和M_s相反.当薄膜厚度为800 nm时,M_s达到最大值59.2 A·m~2/kg,此时H_c最小为106.7 kA/m.该薄膜具有高度的平行各向异性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨成韬	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	67	255	8.0	12.0
2	于永杰	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	3	13	2.0	3.0
3	张亚磊	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	3	6	2.0	2.0
4	解群眺	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	5	23	3.0	4.0