热处理气氛对TiO2纳米管阵列薄膜光电催化性能的影响

• 作者: 凌云汉 廖雷 张溪 牛致远 赵成根 陈诗蕾
• 来源期刊: 催化学报
• 学科: 化学
• 关键词: 二氧化钦 纳米管阵列 阳极氧化 光电催化 亚甲基蓝 热处理
• 年，卷（期）: 2010,（10）
• 页码范围: 1300-1304
• 分类号: O643
• 字数: 3565字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1088.2010.00418

摘要

采用原位阳极氧化法在Ti基底上制备了高度有序的Ti02纳米管阵列薄膜,分别在O2,空气,Ar和H2气氛中于5000C进行结晶热处理,考察了热处理气氛对TiO2纳米管阵列薄膜光电催化降解亚甲基蓝(MB)反应性能的影响.结果表明,在这些气氛中热处理得到的锐钦矿晶型的纳米管阵列薄膜对MB降解满足一级反应,其速率常数分别为4.967,3.127,1.989和1.625 h-1(0.5V).电化学阻抗分析表明,TiO2纳米管的光电催化性能受控于光生电荷的传递特性.在O2中热处理,TiO2纳米管的光吸收及激发性能得以改善,且电荷传递阻抗降低,因而其光电催化性能最好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张溪	桂林理工大学环境科学与工程学院	3	21	3.0	3.0
2	凌云汉	清华大学材料科学与工程系	28	231	8.0	14.0
3	廖雷	桂林理工大学环境科学与工程学院	40	107	6.0	7.0
4	牛致远	清华大学材料科学与工程系	1	3	1.0	1.0
5	陈诗蕾	清华大学材料科学与工程系	1	3	1.0	1.0
6	赵成根	桂林理工大学环境科学与工程学院	4	22	3.0	4.0