Nb2O5对氧化铝陶瓷显微结构及性能的影响

• 作者: 刘晗 周晓华 张树人 李波
• 来源期刊: 电子元件与材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化铝陶瓷 抗弯强度 显微结构 Nb2O5
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与试制
• 页码范围: 22-24
• 分类号: O484
• 字数: 2212字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-2028.2010.05.007

摘要

研究了SiO2-MgO-CaO-BaO-TiO2-WO3烧结助剂作用下Nb2O5对氧化铝陶瓷性能和显微结构的影响(烧结温度1 350 ℃),并用扫描电子显微镜观察了不同Nb2O5含量的氧化铝陶瓷的显微结构.结果发现:未加入Nb2O5时氧化铝的抗弯强度为365 MPa,加入质量分数为0.4%或0.6%的Nb2O5后氧化铝陶瓷中晶粒出现异向生长,抗弯强度明显提高,超过400 MPa.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张树人	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	187	1176	16.0	24.0
2	周晓华	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	70	468	11.0	17.0
3	李波	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	69	486	12.0	17.0
4	刘晗	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	2	11	1.0	2.0