氧气流量对射频磁控溅射制备Cu2O薄膜性能的影响

• 作者: 李斌斌 林龙 江丰 沈鸿烈 鲁林峰
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氧化亚铜 磁控溅射 电阻率 光透射率 氧气流量
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 页码范围: 1221-1226
• 分类号: O484
• 字数: 2944字
• 语种: 中文

摘要

通过磁控溅射方法在玻璃衬底上制备Cu2O薄膜,采用X射线衍射(XRD)、分光光度计、原子力显微镜(AFM)和X射线光电子能谱(XPS)等研究了氧气流量对Cu2O薄膜性能的影响.结果表明:氧气流量为4.2 sccm时,薄膜为单相的Cu2O,具有较高的结晶质量和可见光透过率,光学带隙为2.29 eV,薄膜的导电类型是p型且空穴浓度为2×1016 cm-3.通过XPS能谱分析Cu 2p3/2和O 1s结合能,确定了薄膜中Cu以+1价存在.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	沈鸿烈	南京航空航天大学材料科学与技术学院	93	264	9.0	10.0
2	江丰	南京航空航天大学材料科学与技术学院	17	57	5.0	6.0
3	李斌斌	南京航空航天大学材料科学与技术学院	23	157	8.0	10.0
4	林龙	南京航空航天大学材料科学与技术学院	2	17	2.0	2.0
5	鲁林峰	南京航空航天大学材料科学与技术学院	14	62	6.0	7.0