沉积参数对磁控溅射CrNX膜结构和性能的影响

• 作者: Kim Sunkyu 李永良
• 来源期刊: 现代仪器与医疗
• 关键词: 直流磁控溅射 CrNX膜 沉积参数 结构与性能
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 22-24
• 页数: 3页
• 分类号: O6
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-7916.2010.01.006

摘要

本文采用非平衡直流磁控溅射方法制备CrNX薄膜,研究沉积参数对膜结构和性能的影响.结果表明沉积过程中增加N2的分压,薄膜的组成由Cr2N相转变成CrN相,膜的表面形貌也由胞状转化为正四面体.增加样品台的负偏压,沉积膜层更加致密,表面更加平坦.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李永良	北京师范大学分析测试中心	58	807	15.0	26.0
2	Kim Sunkyu	蔚山大学材料工程学院	1	2	1.0	1.0