靶与衬底之间的距离对ZnO:Zr透明导电薄膜性能的影响

• 作者: 刘汉法 张化福 陈钦生
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 靶与衬底之间的距离 ZnO:Zr 透明导电薄膜 磁控溅射
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 1412-1416
• 分类号: TN304.2|TN304.055
• 字数: 3291字
• 语种: 中文

摘要

利用直流磁控溅射法在室温玻璃衬底上制备出了可见光透过率高、电阻率低的掺锆氧化锌(ZnO: Zr)透明导电薄膜.并系统地研究了靶与衬底之间的距离对ZnO: Zr薄膜结构、形貌、光学及电学性能的影响.实验结果表明,靶与衬底之间的距离对ZnO: Zr薄膜的生长速率、结晶质量及电学性能有很大影响,而对其光学性能影响不大.实验制备的ZnO: Zr为六方纤锌矿结构的多晶薄膜,且具有垂直于衬底方向的c轴择优取向.当靶与衬底之间的距离从60 mm减小到50 mm时,薄膜的晶化程度提高、晶粒尺寸增大,薄膜的电阻率减小;然而,当距离继续减小时,薄膜的晶化程度降低、晶粒尺寸减小,薄膜的电阻率增大.当靶与衬底之间的距离为50 mm时,薄膜的电阻率达到最小值4.2×10-4 Ω·cm,其可见光透过率超过95%.实验制备的ZnO: Zr薄膜可以用作薄膜太阳能电池和液晶显示器的透明电极.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘汉法	山东理工大学理学院	57	316	11.0	13.0
2	张化福	山东理工大学理学院	52	292	11.0	13.0
3	陈钦生	山东理工大学理学院	12	98	5.0	9.0