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摘要:
为了消除chiral nematic-chiral smectic C (N*-SmC*)相序铁电液晶从N*相降温到SmC*相时形成的两畴织构缺陷,提高液晶的响应速度,选用铁电液晶R-2301以及两种取向剂SE-410和RN-1199制备了5种铁电液晶样品器件.实验后,对5种器件的排列织构的正交偏光显微镜照片进行对比,得出通过非对称边界锚定作用可以得到均匀单畴排列的铁电液晶器件的结论.实验结果表明:经过非对称边界锚定作用可以得到电光曲线为半"V"字型且静态对比度为300∶1的均匀单畴排列铁电液晶器件.这一结论和理论近似计算结果相吻合,为N*-SmC*相序铁电液晶器件实现单畴排列制备提供了新的方法和途径.
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文献信息
篇名 非对称锚定制备均匀单畴排列铁电液晶器件
来源期刊 光学精密工程 学科 工学
关键词 铁电液晶 非对称锚定 单畴 半"V"字型 静态对比度
年,卷(期) 2010,(6) 所属期刊栏目 现代应用光学
研究方向 页码范围 1295-1302
页数 分类号 TN141.9|TN384
字数 3560字 语种 中文
DOI 10.3788/OPE.20101806.1295
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 彭增辉 7 40 3.0 6.0
2 刘永刚 9 66 4.0 8.0
3 鲁兴海 3 27 3.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
铁电液晶
非对称锚定
单畴
半"V"字型
静态对比度
研究起点
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相关学者/机构
期刊影响力
光学精密工程
月刊
1004-924X
22-1198/TH
大16开
长春市东南湖大路3888号
12-166
1959
chi
出版文献量(篇)
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