工艺参数对等离子合成TiN层相结构的影响

• 作者: 卜根涛 王成磊 申罡 高原
• 来源期刊: 表面技术
• 学科: 工学
• 关键词: 双层辉光 择优取向 TiN薄膜 相结构
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 页码范围: 47-49,60
• 分类号: TG174.42
• 字数: 2900字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3660.2010.02.014

摘要

采用双层辉光等离子渗金属技术,在碳钢表面进行反应合成TiN层,研究了各种工艺参数对合成TiN层相结构的影响.结果表明:当TiN层较薄时,表面能起控制作用,TiN层的生长显示出{lOO)取向生长趋势,使TiN层系统自由能较低;而当TiN层较厚时,应变能占主导因素.对TiN层生长起主要控制作用,使TiN层呈现出{111}择优取向,有利于TiN层系统自由能的降低.即TiN层随厚度增加,{111}择优取向生长越明显.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卜根涛		10	20	3.0	4.0
2	高原		145	940	14.0	24.0
3	王成磊		69	275	9.0	12.0
4	申罡		6	17	3.0	4.0