N,O-羧甲基壳聚糖的制备及其在印染废水处理中的应用研究

• 作者: 李志洲
• 来源期刊: 印染助剂
• 学科: 工学
• 关键词: 微波辐射 羧甲基化 壳聚糖 废水处理
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 页码范围: 43-46
• 分类号: TQ610.9
• 字数: 3095字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-0439.2010.11.012

摘要

研究了羧甲基壳聚糖(CMC)的最佳制备工艺及其在印染废水处理中的应用.CMC的最佳制备工艺条件为:加入8 mL浓度为15 mol/L NaOH溶液,碱化2 h后,在微波功率400 W条件下,加入CICH2COOH溶液(7 mol/L)8 mL,微波辐射时间为20 min,加热温度为60℃时,反应产物取代度(DS)最高为0.89;该产品的等电点为5.63.试验研究了CMC用量、处理时间以及pH值对印染废水COD去除率的影晌.研究表明:CMC用量25 mL、处理时间3 h、pH值为5.0时,CMC对印染废水的COD去除率较高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李志洲	陕西理工学院化学与环境科学学院	121	1415	21.0	29.0