PBS法测量Ti膜中H同位素深度分布

• 作者: 丁伟 施立群 龙兴贵
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 质子背散射 钛膜 氢同位素
• 年，卷（期）: 2010,（z1）
• 页码范围: 563-566
• 分类号: TL8
• 语种: 中文

摘要

在Mo底衬上制备了约5μm的3个TiDxTy样品,用质子背散射(PBS)法分析了D、T在Ti膜中的深度分布,其中,T的分析能得出较为准确的结果,而D的分析结果受质子在Mo底衬中多次散射信号的影响偏差较大.分析结果表明,PBS法测量的T含量和浓度与样品制备过程中测量的结果一致,且T在Ti膜中分布均匀.这证明PBS法可用于对材料中T浓度与分布的分析.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙兴贵	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	123	496	10.0	16.0
2	丁伟	中国工程物理研究院核物理与化学研究所	16	45	5.0	6.0
3	施立群	复旦大学现代物理研究所	21	73	5.0	8.0