ZrB2-Si3N4高温复相陶瓷的制备及抗氧化机理研究

• 作者: 宋杰光 张小强 徐斌 李世斌 李伟 纪岗昌
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 二硼化锆 氮化硅 复相陶瓷 真空热压烧结 氧化机理
• 年，卷（期）: 2010,（z2）
• 页码范围: 519-521,528
• 分类号: TQ17
• 字数: 2079字
• 语种: 中文

摘要

由于ZrB2具有极高的熔点、强度、硬度和导电率等许多优异性能,因而其应用领域非常广泛.研究了ZrB2-Si3N4复相陶瓷的制备和高温下的氧化机理.结果表明,在1700℃、15MPa、2h烧结务件下制备的ZrB2-20%Si3N4复相陶瓷的致密度为98%左右.ZrB2-Si3N4复相陶瓷在高温氧化时生成了SiO2,并且SiO2液相容易在复相陶瓷表面富集形成一层保护膜,有望提高陶瓷在更高氧化温度下的抗氧化性能.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	纪岗昌	九江学院九江市绿色再制造重点实验室	55	253	7.0	13.0
2	宋杰光	九江学院机械与材料工程学院	52	287	6.0	16.0
6	李世斌	九江学院机械与材料工程学院	28	154	6.0	11.0
10	张小强	九江学院机械与材料工程学院	3	8	1.0	2.0
11	徐斌	九江学院机械与材料工程学院	2	7	1.0	2.0
12	李伟	九江学院机械与材料工程学院	8	25	3.0	4.0