基片温度对TiO2薄膜的微观结构和紫外光电特性的影响

• 作者: 刘子丽 孙继伟 肖峻 蒋向东
• 来源期刊: 电子器件
• 学科: 物理学
• 关键词: TiO2薄膜 基片温度 直流磁控溅射 紫外光电特性
• 年，卷（期）: 2010,（2）
• 所属期刊栏目: 薄膜与光电
• 页码范围: 135-138
• 分类号: O484
• 字数: 2218字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-9490.2010.02.001

摘要

为了制备具有紫外光电特性的TiO2薄膜,采用直流磁控溅射(DC)的方法在不同温度的玻璃基片上制备了TiO2薄膜.通过用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、X-射线能谱仪(EDS)测试薄膜的晶体结构、表面形貌和薄膜组成成分.结果表明:当基片温度在250℃及以上时,制备出具有锐钛矿结构的TiO2薄膜,并且有较好化学计量比.TiO2薄膜电阻在紫外光照射下的响应时间随基片温度的升高而减少.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	蒋向东	电子科技大学光电信息学院	34	154	6.0	10.0
2	肖峻	西南民族大学电气信息工程学院	12	33	3.0	5.0
3	孙继伟	电子科技大学光电信息学院	5	21	3.0	4.0
4	刘子丽	西南民族大学电气信息工程学院	3	13	2.0	3.0