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摘要:
对低温等离子体技术降解全氟化合物的研究现状、新型技术、成果、存在的问题以及发展方向做了全面综述.着重总结了微波等离子体技术、水等离子体技术、填充床等离子体技术等.简要阐明了低温等离子体技术对全氟化合物的去除机理,以及微波等离手体技术和水等离子体技术对CF4的降解机理.最后总结低温等离子体技术对全氟化合物降解的发展前景.
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文献信息
篇名 低温等离子体技术处理全氟化合物研究进展
来源期刊 环境科技 学科 地球科学
关键词 全氟化合物 低温等离子体 机理
年,卷(期) 2010,(2) 所属期刊栏目 综述与专论
研究方向 页码范围 59-63
页数 分类号 X2
字数 4128字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1674-4829.2010.02.018
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全氟化合物
低温等离子体
机理
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期刊影响力
环境科技
双月刊
1674-4829
32-1786/X
大16开
江苏省徐州市黄河南路60号
28-179
1988
chi
出版文献量(篇)
3045
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7
总被引数(次)
22986
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