高硅Na-ZSM-5分子筛表面NO的常温吸附-氧化机理

• 作者: 刘华彦 张泽凯 徐媛媛 李希 陈银飞
• 来源期刊: 催化学报
• 学科: 化学
• 关键词: Na-ZSM-5分子筛 一氧化氮 氧化 氮氧化物 吸附 脱除
• 年，卷（期）: 2010,（10）
• 页码范围: 1233-1241
• 分类号: O643/X7
• 字数: 4174字
• 语种: 中文
• DOI: 10.1016/S1872-2067(10)60117-9

摘要

采用程序升温表面反应(TPSR)和原位漫反射红外光谱(DRIFTS)等手段研究了常温下NO和O2在高硅Na-ZSM-5分子筛上吸附-氧化反应机理.结果表明,Na-ZSM-5分子筛上NO的催化氧化过程中伴随着显著的NO2物理吸附,表现为NO氧化和N02吸附间的动态平衡.Na-ZSM-5分子筛表面NOx吸附物种的TPSR和原位DRIFTS表征表明,化学吸附的NO和气相中的O2在Na-ZSM-5表面反应生成吸附态的NO3,并继续与NO作用生成弱吸附的NO2和N2O4,它们吸附饱和后释放出来;其中,强吸附的NO3在NO氧化过程中起到了反应中间体的作用,同时也促进了NO的吸附.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李希	浙江大学化学工程与生物工程系	133	1448	19.0	30.0
2	陈银飞	浙江工业大学化学工程与材料学院	84	691	14.0	21.0
3	刘华彦	浙江大学化学工程与生物工程系	58	495	12.0	18.0
5	张泽凯	浙江工业大学化学工程与材料学院	26	151	8.0	11.0
8	徐媛媛	浙江工业大学化学工程与材料学院	2	40	2.0	2.0