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电泳沉积法制备CuO薄膜的微观结构分析
电泳沉积法制备CuO薄膜的微观结构分析
作者:
孙钦军
李玉国
石锋
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
电泳沉积法
CuO薄膜
微观结构
摘要:
在经清洗后的硅(111)衬底上,分别采用电泳过程中氧化制备CuO薄膜和电泳制备Cu膜后退火氧化制备CuO薄膜.用XRD和SEM对薄膜样品进行了组分、表面形貌等微观结构的分析,发现两种方法制备的CuO薄膜的组分基本一致,但形貌完全不同,前者是由非常均匀的CuO小颗粒(200 nm)相连而成团簇状,后者是由一些大小均匀的半径约为200 nm的CuO小颗粒和气孔相互交融紧密连接而成的条状或块状.电泳过程中氧化制备的CuO薄膜结晶质量较好.
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文献信息
篇名
电泳沉积法制备CuO薄膜的微观结构分析
来源期刊
半导体光电
学科
工学
关键词
电泳沉积法
CuO薄膜
微观结构
年,卷(期)
2010,(1)
所属期刊栏目
材料、结构及工艺
研究方向
页码范围
87-89
页数
3页
分类号
TQ131.21
字数
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
石锋
山东师范大学物理与电子科学学院
31
83
5.0
6.0
2
李玉国
山东师范大学物理与电子科学学院
44
186
7.0
11.0
3
孙钦军
山东师范大学物理与电子科学学院
7
32
3.0
5.0
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节点文献
电泳沉积法
CuO薄膜
微观结构
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
主办单位:
重庆光电技术研究所
出版周期:
双月刊
ISSN:
1001-5868
CN:
50-1092/TN
开本:
大16开
出版地:
重庆市南坪花园路14号44所内
邮发代号:
创刊时间:
1976
语种:
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
22
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