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摘要:
在经清洗后的硅(111)衬底上,分别采用电泳过程中氧化制备CuO薄膜和电泳制备Cu膜后退火氧化制备CuO薄膜.用XRD和SEM对薄膜样品进行了组分、表面形貌等微观结构的分析,发现两种方法制备的CuO薄膜的组分基本一致,但形貌完全不同,前者是由非常均匀的CuO小颗粒(200 nm)相连而成团簇状,后者是由一些大小均匀的半径约为200 nm的CuO小颗粒和气孔相互交融紧密连接而成的条状或块状.电泳过程中氧化制备的CuO薄膜结晶质量较好.
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内容分析
关键词云
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文献信息
篇名 电泳沉积法制备CuO薄膜的微观结构分析
来源期刊 半导体光电 学科 工学
关键词 电泳沉积法 CuO薄膜 微观结构
年,卷(期) 2010,(1) 所属期刊栏目 材料、结构及工艺
研究方向 页码范围 87-89
页数 3页 分类号 TQ131.21
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 石锋 山东师范大学物理与电子科学学院 31 83 5.0 6.0
2 李玉国 山东师范大学物理与电子科学学院 44 186 7.0 11.0
3 孙钦军 山东师范大学物理与电子科学学院 7 32 3.0 5.0
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研究主题发展历程
节点文献
电泳沉积法
CuO薄膜
微观结构
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
半导体光电
双月刊
1001-5868
50-1092/TN
大16开
重庆市南坪花园路14号44所内
1976
chi
出版文献量(篇)
4307
总下载数(次)
22
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