氧化锆基台研制及其与种植体连接界面适合性研究

• 作者: 党华 孙桂兰 杨建军 王永亮
• 来源期刊: 中国实用口腔科杂志
• 学科: 医学
• 关键词: 氧化锆基台 冷等静压成型 二次烧结 基台与种植体连接界面 微间隙 适合性
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 论著
• 页码范围: 30-32
• 分类号: R78
• 字数: 2415字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1674-1595.2010.01.009

摘要

目的 研制氧化锆基台并评价其与种植体连接界面的适合性.方法 2007年5月至2009年1月在青岛大学医学院附属医院口腔科选用纳米氧化锆粉,采用冷等静压成型方法和二次烧结工艺制作氧化锆基台,选取15枚氧化锆基台与Osstem USⅡ种植体装配,应用扫描电镜测量基台与种植体连接界面微间隙.结果 研制的氧化锆基台与种植体装配顺利,基台与种植体连接界面的边缘微间隙为(3.17±0.34)μm、内部微间隙为(28.4±2.7)μm.结论 采用纳米氧化锆粉经冷等静压成型和二次烧结工艺制作的基台与种植体有较好的适合性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙桂兰	青岛大学医学院附属医院口腔科	30	133	7.0	9.0
2	杨建军	青岛大学医学院附属医院口腔科	38	197	9.0	11.0
3	王永亮	青岛大学医学院附属医院口腔科	7	23	3.0	4.0
4	党华		1	8	1.0	1.0