Ar/N2流量比对辉光等离子渗镀TiN的影响

• 作者: 卜根涛 王成磊 申罡 高原
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 双层辉光 择优取向 TiN薄膜 相结构
• 年，卷（期）: 2010,（7）
• 页码范围: 119-122
• 分类号: TG156.8
• 语种: 中文

摘要

利用双层辉光等离子渗金属技术,在碳钢表面合成TiN,研究不同的Ar/N2流量比对合成的TiN的影响,获得Ar/N2流量比与TiN表面硬度、表面颜色及TiN成分含量之间的关系,以及Ar/N2流量比对TiN相结构的影响结果:当Ar/N2流量比较大时,以{100}择优取向生长;随着Ar/N2的降低,TiN薄膜由{100}择优取向生长向{111}择优取向生长过渡;TiN薄膜中并不一定是单一的TiN相,还有其他如Ti2N相的存在,造成TiN薄膜硬度的降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卜根涛	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	10	20	3.0	4.0
2	高原	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	145	940	14.0	24.0
3	王成磊	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	69	275	9.0	12.0
4	申罡	桂林电子科技大学材料科学与工程学院	6	17	3.0	4.0