脉冲激光沉积AlN薄膜的结构表征和性能研究进展

• 作者: 何欢 符跃春 谢尚晻
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积 AlN薄膜 衬底 工艺参数 性能
• 年，卷（期）: 2010,（11）
• 所属期刊栏目: 材料综述
• 页码范围: 45-49
• 分类号: TQ13
• 字数: 5842字
• 语种: 中文

摘要

脉冲激光沉积法(PLD)以其低温成膜优势被公认为是宽禁带半导体AIN薄膜的优选制备方法.获得高质量的AIN薄膜需要最佳的薄膜/衬底匹配和工艺参数.综述了各种常见异质外延衬底与AlN薄膜的取向关系,分析了影响薄膜质量的工艺因素,介绍了薄膜在电、光、热方面的性能研究现状,并指出了今后工作的方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	符跃春	广西大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室	13	58	3.0	7.0
2	何欢	广西大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室	19	102	6.0	10.0
3	谢尚晻	广西大学材料科学与工程学院有色金属及材料加工新技术教育部重点实验室	1	11	1.0	1.0