沉积温度对TiN/SiN_x多层膜结构及力学性能的影响

• 作者: 安涛
• 来源期刊: 长春大学学报
• 学科: 物理学
• 关键词: TiN/SiNx纳米多层膜 界面结构 择优取向
• 年，卷（期）: 2010,（6）
• 页码范围: 10-12
• 页数: 3页
• 分类号: O482.1

摘要

采用反应磁控溅射方法,在不同沉积温度条件下制备了一系列多晶TiN/SiNx纳米多层膜,并用X射线衍射仪（XRD）、X射线反射仪（XRR）及纳米压痕仪（Nanoindenter）表征了材料的微观结构及力学性能。结果表明,沉积温度对多层膜的界面结构、择优取向及力学性能有显著影响：当沉积温度为室温时,多层膜的界面较高温条件下粗糙;而多层膜的择优取向在沉积温度为400℃时呈现强烈的TiN（200）织构;多层膜的硬度及弹性模量在室温至400℃温度范围内变化不大。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	安涛	长春大学理学院	14	20	3.0	4.0