采用过电铸工艺制造金属微细阵列网板

• 作者: 朱荻 李寒松 胡洋洋
• 来源期刊: 光学精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光刻 AZ胶 金属微细阵列网板 过电铸
• 年，卷（期）: 2010,（8）
• 页码范围: 1793-1800
• 分类号: TN305.7|TG662
• 字数: 4373字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/OPE.20101808.1793

摘要

针对制作尺度<10 μm的超小微细阵列网板非常困难的问题,提出了采用过电铸工艺制造超小尺寸微细阵列网板的方法.建立了过电铸工艺过程的电场模型,利用有限元分析技术对过电铸工艺过程进行模拟仿真.选取优化的工艺参数(烘胶 120 ℃/60 min,曝光 3 000 mJ/cm2,显影 2 min等)利用光刻制作了高度为50 μm、直径为50 μm的AZ EXP 125nXT-10A光刻胶群柱结构,以此胶膜结构作为模具进行了过电铸工艺实验,并与仿真结果进行对比,结果证明了有限元仿真的正确性.最后,通过过电铸缩孔2 h获得了厚度达70 μm,孔径为4 μm的微细阵列网板结构.实验表明,过电铸工艺是一种低廉、安全、可批量生产的制作超小阵列网板的方法.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	朱荻	南京航空航天大学江苏省精密与微细制造技术重点实验室	237	3580	30.0	43.0
2	李寒松	南京航空航天大学江苏省精密与微细制造技术重点实验室	42	294	10.0	15.0
3	胡洋洋	南京航空航天大学江苏省精密与微细制造技术重点实验室	16	221	9.0	14.0