NO和NO_2在V_2O_5/AC催化剂表面的反应行为

• 作者: 刘振宇 刘清雅 孙德魁 肖勇 贵国庆 黄张根
• 来源期刊: 催化学报
• 学科: 化学
• 关键词: 五氧化二钒 活性炭 氮氧化物 氨 选择性催化还原
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 研究论文
• 页码范围: 56-60
• 页数: 5页
• 分类号: O643/X7
• 字数: 3743字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3724/SP.J.1088.2010.90544

摘要

采用程序升温脱附、在线质谱和原位漫反射红外光谱等手段,比较了NO和NO_2在V_2O_5及V_2O_5/AC催化剂表而的选择催化还原(SCR)反应行为.结果表明,氨以质子态NH_4~+和共价态NH_3分子两种形态吸附于纯V_2O_5表面,V=O为氨的主要吸附活性位.无氧状态下,NO和NO_2皆可与吸附于V_2O_5表面的NH_3反应,并且NO_2与吸附态NH_2的反应活性高于NO.但在V_2O_5/AC催化剂表面,同样在无氧条件下,NO几乎不与吸附态NH_3反应,而NO_2却可以反应并生成N_2.在V_2O_5/AC表面,NO很容易被气相O_2氧化为NO_2,然后参与SCR反应.可见,NO_2是NO在V_2O_5/AC表面发生SCR反应的中间体.