电沉积技术在电磁屏蔽中的应用现状

• 作者: 周少雄 杨锋 王翰林
• 来源期刊: 电镀与涂饰
• 学科: 工学
• 关键词: 电磁屏蔽 电沉积 研究现状
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 所属期刊栏目: 发展论坛
• 页码范围: 39-42
• 分类号: TQ153.2|TB43
• 字数: 3969字
• 语种: 中文

摘要

电沉积技术作为一种重要的制备方法,在电磁屏蔽材料研制中得到了广泛的应用.本文介绍了电磁屏蔽的基本原理,概述了电沉积铜、电沉积镍及镍合金、电沉积非晶和电沉积复合镀层在电磁屏蔽中的应用,指出了电沉积在电磁屏蔽中的未来发展方向.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨锋		12	64	5.0	8.0
2	王翰林		6	36	3.0	6.0
3	周少雄		44	279	10.0	15.0