氩气对直流弧光放电PCVD金刚石薄膜晶体特征的影响

• 作者: 常嗣和 张湘辉 汪灵 龙剑平
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 金刚石薄膜 晶体特征 直流弧光放电等离子体CVD
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 页码范围: 130-134
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 3982字
• 语种: 中文

摘要

本文采用自主研制的直流弧光放电等离子体CVD设备,在YG6硬质合金基体上进行了不同氩气流量下金刚石薄膜的制备研究.采用SEM对金刚石薄膜的晶体特征进行了观察.结果表明,氩气对直流弧光放电等离子体CVD金刚石薄膜的晶体特征有明显影响.在CH_4/H_2恒定时(0.8%),硬质合金基体上制备的金刚石薄膜表面形貌随Ar流量增加而变化的规律,即从以(111)八面体晶面为主→(111)和(100)立方八面体混杂晶面→以(100)立方体晶面为主→菜花状的顺序转变;当Ar流量为420～700 mL/min时,金刚石晶粒的平均尺寸由1.5 μm 逐步增大到7 μm;Ar流量为700～910 mL/min时,金刚石晶粒的平均尺寸由7 μm急剧减小到纳米尺度,约50 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	龙剑平	成都理工大学材料与化学化工学院	55	282	9.0	13.0
5	汪灵	成都理工大学材料与化学化工学院	67	603	14.0	20.0
9	张湘辉	成都理工大学材料与化学化工学院	17	75	5.0	7.0
13	常嗣和	成都理工大学材料与化学化工学院	21	110	5.0	10.0