温度对化学水浴法制备ZnS薄膜的影响

• 作者: 刘庭芝 徐鹏 郭岚
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 物理学
• 关键词: 化学水浴 ZnS薄膜 沉积温度
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 所属期刊栏目: 加工工艺
• 页码范围: 94-97
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4
• 字数: 2211字
• 语种: 中文

摘要

采用化学水浴法在玻璃上制备了太阳能电池中的ZnS缓冲层,采用SEM、EDS、XRD和nkd-分光光度计等手段研究了水浴温度对ZnS薄膜的表面形貌、结构和光学性能的影响.结果表明,升高温度不能明显改变薄膜的结晶性、形貌和沉积生长方式.能否成膜与温度的关系也不大,但成膜速率对温度的依赖性较大.随温度的升高,薄膜的透过率先减小后增大,反射率则先增大后减小.对同一试样而言,透过率和反射率对应较好.当温度为70℃时,可制得禁带宽度为3.83eV、符合化学计量比、平整的非晶ZnS薄膜.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	郭岚	南昌大学分析测试中心	66	619	13.0	21.0
2	徐鹏	南昌大学分析测试中心	28	160	8.0	11.0
3	刘庭芝	江西科技师范学院江西省表面材料工程重点实验室	9	58	5.0	7.0