双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜粘结性能研究

• 作者: 刘新胜 周灵平 彭坤 朱家俊 李德意 李绍禄
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: AlN薄膜 反应磁控溅射 粘结强度 共沉积
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 页码范围: 77-81
• 页数: 5页
• 分类号: TB321
• 字数: 2912字
• 语种: 中文

摘要

采用单、双靶反应磁控溅射法分别在45钢、GCr15钢、硅(100)和钼衬底上制备了AlN薄膜.X射线衍射和电子显微分析表明,双靶反应磁控溅射沉积的AlN薄膜具有高致密度和低残余应力,同时采用划痕法和压痕法等对AlN薄膜的粘结强度进行测试, 结果表明:双靶反应磁控溅射共沉积AlN薄膜的粘结强度明显比单靶沉积的薄膜高,划痕临界载荷提高0.5～2倍.不同衬底上沉积的AlN薄膜粘结强度存在很大的差别,以钼衬底上沉积的薄膜粘结强度最高,划痕法测得的临界载荷高达64 N;GCr15衬底上AlN薄膜摩擦试验表明,AlN薄膜能明显起到减磨作用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周灵平	湖南大学材料科学与工程学院	48	322	11.0	16.0
2	李绍禄	湖南大学材料科学与工程学院	26	292	10.0	16.0
3	李德意	湖南大学材料科学与工程学院	44	411	11.0	19.0
4	彭坤	湖南大学材料科学与工程学院	36	254	8.0	15.0
5	朱家俊	湖南大学材料科学与工程学院	28	127	6.0	10.0
6	刘新胜	湖南大学材料科学与工程学院	3	23	2.0	3.0