光学加工中抛光垫特征对工件面形的影响分析

• 作者: 李亚国 王健 许乔 谢瑞清 陈贤华 黄浩
• 来源期刊: 光电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 光学加工 抛光 工件面形 压力分布 抛光垫
• 年，卷（期）: 2010,（7）
• 所属期刊栏目: 先进光学制造技术
• 页码范围: 64-69
• 分类号: TQ171.73+4
• 字数: 2642字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1003-501X.2010.07.013

摘要

抛光是光学加工中获得超精密表面的主要手段.为明确抛光垫特征对平面光学元件抛光面形的影响规律,分析了抛光垫与工件之间的界面接触形式,并建立接触力学分析模型,运用有限元方法分析了工件与抛光垫之间的接触压力分布情况,获得了抛光垫厚度及表面球半径等特征对抛光压力分布的影响规律.基于理论分析结果,提出了一种新的平面抛光面形控制技术.在实验中对一块尺寸为430 mm×430 mm×60 mm的熔石英元件进行了加工,通过将抛光垫表面修整为微凸面,同时对抛光转速比进行精确控制,实现了工件面形精度的快速收敛.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	王健		25	165	9.0	11.0
2	许乔		82	1074	17.0	27.0
3	陈贤华		11	72	6.0	8.0
4	谢瑞清		7	35	4.0	5.0
5	李亚国		6	44	4.0	6.0
6	黄浩		3	26	3.0	3.0