双包层光纤光栅的制备及其高功率光纤激光实验研究

• 作者: 何兵 周军 李震 楼祺洪 范元媛 董景星 薛宇豪 顾锡嘉 魏运荣
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 工学
• 关键词: 光纤光栅 掺Yb3+双包层光纤激光器 高功率 相位掩模法
• 年，卷（期）: 2010,（9）
• 页码范围: 2395-2399
• 页数: 5页
• 分类号: TN248.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL20103709.2395

摘要

以248 nm的KeF准分子激光器为光源,基于相位掩模法,研究了大模场面积双包层光纤(LMA-DCF)光栅的刻写技术.在20/400 μm的LMA-DCF中制备出中心波长1076.11 nm,基模反射率大于99.9%,3 dB带宽0.32 nm的光纤布拉格光栅(FBG).用已制备的FBG作为腔镜,采用分立的光学元件后向抽运掺Yb3+光纤激光器,实现了144 W的稳定激光输出.斜率效率为60%,输出激光光谱特性同FBG的光谱特性一致.