不同工艺对TaN薄膜组织与性能的影响

• 作者: 周细应 季鑫 宓一鸣 张朝民 言智
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: TaN薄膜 表面形貌 力学性能 耐腐蚀性能
• 年，卷（期）: 2010,（4）
• 所属期刊栏目: 组织与性能
• 页码范围: 47-51
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

用磁控溅射法在硅基材料上制备TaN薄膜,用原子力显微镜(AFM)和X射线衍射仪(XRD)研究不同工艺下磁控溅射TaN薄膜的表面形貌和组织,用纳米压痕仪和CHI电化学分析仪测试薄膜的力学性能和耐腐蚀性能.结果表明,基底加热和退火处理均导致TaN薄膜组织发生六方结构TaN(110)向面心立方结构TaN(111)和TaN(331)的转变.另外,基底加热和退火处理工艺均改善了TaN薄膜的显微硬度和膜基结合力等力学性能,其断裂韧性和耐腐蚀性能有所降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周细应	上海工程技术大学材料工程学院	114	777	15.0	25.0
2	季鑫	上海工程技术大学基础教学学院	16	115	5.0	10.0
3	宓一鸣	上海工程技术大学基础教学学院	37	195	7.0	13.0
4	张朝民	上海工程技术大学基础教学学院	37	67	4.0	6.0
5	言智	上海工程技术大学材料工程学院	14	89	5.0	9.0