外科吻合用壳核结构磁性纳米钕铁硼的制备及其细胞毒性

• 作者: 万真 于良 刘昌 吕毅 李建辉 谢占涛 钱军民 黄石
• 来源期刊: 中国组织工程研究与临床康复
• 学科: 医学
• 关键词: 磁性吻合 纳米钕铁硼 高能球磨法 表面修饰 纳米毒性 胞吞
• 年，卷（期）: 2010,（42）
• 页码范围: 7829-7834
• 分类号: R318
• 字数: 6195字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1673-8225.2010.42.010

摘要

背景:磁力压榨式吻合器以其优越的性能受到越来越多的关注,但是其留置体内会对机体造成不良影响,可降解磁力吻合器有望解决此问题.目的:制备适于外科吻合用的硅胶表面修饰的壳核结构纳米钕铁硼(SiO2/Nd-Fe-B)磁性材料,并评价其细胞毒性.方法:高能球磨法制备纳米钕铁硼(Nd-Fe-B)材料,溶胶-凝胶法对其进行表面修饰.MTT法检测纳米SiO2/Nd-Fe-B材料的细胞毒性,纳米SiO2/Nd-Fe-B材料与L929细胞共培养,观察其在细胞内分布以及细胞器的改变,传代培养检测粒子代谢情况.结果与结论:成功制备出纳米SiO2/Nd-Fe-B材料,MTT法检测材料浸提液细胞毒性分级为1级,其吸光度值与空白对照组相比差异无显着性意义(P>0.05).纳米SiO2/Nd-Fe-B材料可以通过胞吞方式进入细胞内,其在胞内分布于细胞浆中,TEM观察细胞线粒体轻微水肿,内质网扩张.传代培养发现3代内胞内纳米材料迅速减少.提示高能球磨法结合溶胶-凝胶法可以制备纳米SiO2/Nd-Fe-B材料,此材料细胞毒性小,符合植入人体生物材料的细胞毒性要求.纳米SiO2/Nd-Fe-B材料通过胞吞方式进入细胞内,对细胞器影响轻微,代谢迅速.