脉冲电源辉光等离子渗Ti的工艺研究

• 作者: 卜根涛 王成磊 高原
• 来源期刊: 稀有金属材料与工程
• 学科: 工学
• 关键词: 辉光等离子 脉冲电源 渗层 Ti浓度分布
• 年，卷（期）: 2010,（z1）
• 页码范围: 357-359
• 分类号: TG146.2+3
• 字数: 1806字
• 语种: 中文

摘要

在低碳钢表面利用脉冲电源进行辉光离子渗Ti工艺研究.结果表明:在本工艺条件下,能够获得200 μm以上的渗层,其组织形貌为渗层与基体之间形成一条明显的反应扩散分界线,且分界线两边均出现较为明显的柱状晶;渗Ti层的结构主要由Fe2Ti、Fe-Ti、TiC相组成;随着电压的升高,渗Ti层增加,550 V时达到最厚,表面Ti含量也最高,当电压超过550 V后,渗层厚度减小、Ti含量降低;随时间的增长,渗Ti层厚度增加,表面Ti的含量增加;渗层厚度随温度的升高而变厚,渗层Ti的含量也随之变大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卜根涛		10	20	3.0	4.0
2	高原		145	940	14.0	24.0
3	王成磊		69	275	9.0	12.0