不同退火温度In掺杂ZnO薄膜的表面形貌和光学性质

• 作者: 戴结林
• 来源期刊: 硅酸盐通报
• 学科: 物理学
• 关键词: ZnO薄膜 退火温度 光学性质
• 年，卷（期）: 2010,（1）
• 所属期刊栏目: 试验与技术
• 页码范围: 214-218
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2453字
• 语种: 中文

摘要

用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见分光光度计观察4%(原子分数)In掺杂ZnO薄膜的微结构、表面形貌和光学性质.微结构分析表明:薄膜仍为六角纤锌矿结构,由于In杂质的掺入,使得薄膜结晶度劣化,退火温度对薄膜微结构影响较小;表面形貌观察结果显示:薄膜表面凹凸不平,450 ℃退火处理薄膜表面最平坦,尺寸在50～100 nm之间小颗粒致密、均匀地分布于起伏的表面;紫外可见透射谱研究结果表明:随着退火温度升高,薄膜光学带宽E_g由3.267 eV减小到3.197 eV,该结果可能与薄膜表面残余应力发生变化密切相关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	戴结林	合肥师范学院物理与电子工程系	13	25	4.0	4.0