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摘要:
采用直流磁控溅射方法于不同磁控管非平衡度状态下,通过单靶溅射模式在单晶si衬底上制备了Cr膜.利用AFM、SEM、四探针测试仪及MTS Nano Indenter XP纳米压入测量仪分别对两种磁控管非平衡状态下所得Cr膜的微观形貌、电阻率、纳米硬度和抗磨损性进行了观察和分析,研究了不同磁控管非平衡状态下Cr膜微观结构与性能之间的关系.结果表明:磁控管非平衡状态显著影响着Cr膜的微观结构及性能.不同非平衡度状态下,镀层晶体均为沿Cr(110)择优生长的柱状晶组织.同一靶基距处,镀层晶粒尺寸及硬度与非平衡度大小成正比,而电阻率及抗磨损性能变化趋势却相反.靶基距亦为影响镀层微观结构和性能的重要因素之一.
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文献信息
篇名 磁控管非平衡状态对Cr膜微观形貌及性能的影响
来源期刊 材料热处理学报 学科 工学
关键词 磁控管非平衡度 微观形貌 纳米硬度 抗磨损性
年,卷(期) 2010,(10) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 100-105
页数 分类号 TG144|TB43
字数 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 蒋百灵 西安理工大学材料科学与工程学院 241 5240 40.0 64.0
2 梁戈 西安理工大学材料科学与工程学院 16 229 9.0 15.0
3 文晓斌 西安理工大学材料科学与工程学院 9 100 4.0 9.0
4 李显 西安理工大学材料科学与工程学院 4 11 2.0 3.0
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研究主题发展历程
节点文献
磁控管非平衡度
微观形貌
纳米硬度
抗磨损性
研究起点
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材料热处理学报
月刊
1009-6264
11-4545/TG
大16
北京市海淀区学清路18号北京电机研究所内
82-591
1980
chi
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