磁控溅射阴极靶磁场分布的定量评价

• 作者: 夏原 李光 高方圆
• 来源期刊: 材料热处理学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 磁场分布 结构参数 平行率
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 页码范围: 153-157
• 分类号: TB43
• 语种: 中文

摘要

针对磁控溅射阴极靶磁场分布难以进行定量评价的问题,提出以磁场水平分量B:的平行率R,为量化指标,对磁场分布状态进行评价的新方法;采用有限元方法,模拟分析了磁控溅射阴极靶结构参数对磁场分布的影响规律,并利用Rk对结构参数的合理性进行了验证.结果表明,量化指标Rk可以有效地评价磁场分布的优劣,能够为磁场模拟及分析提供基础的科学判据.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李光	中国科学院力学研究所	38	138	7.0	9.0
2	夏原	中国科学院力学研究所	25	199	7.0	13.0
3	高方圆	中国科学院力学研究所	5	4	1.0	1.0