用中子活化分析镀膜厚度及其探测极限研究

• 作者: 姚振强 姚茂莹 张地大 徐家云 杨尊勇 王明秋 高党忠
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 镀膜厚度 中子活化 测量灵敏度
• 年，卷（期）: 2010,（12）
• 页码范围: 1509-1512
• 分类号: TL364.5
• 语种: 中文

摘要

本工作提出用中子活化分析有基底的单层或多层镀膜厚度的方法.用Am-Be中子源对Au、Al、Cu等薄膜活化后,用HPGe探测器测量被活化薄膜放出的特征γ射线全能峰面积,并用蒙特卡罗方法模拟计算HPGe探测器对不同特征γ射线的探测效率,得到用反应堆中子源活化分析不同元素镀膜厚度的方法和探测极限.与目前广泛使用的X射线荧光方法相比,其分析灵敏度可提高几个量级.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐家云	四川大学物理科学与技术学院	48	252	8.0	14.0
2	高党忠	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	44	290	11.0	15.0
3	姚振强	四川大学物理科学与技术学院	5	4	1.0	2.0
4	杨尊勇	四川大学物理科学与技术学院	4	1	1.0	1.0
5	姚茂莹	四川大学物理科学与技术学院	4	1	1.0	1.0
6	王明秋	四川大学物理科学与技术学院	4	1	1.0	1.0
7	张地大	四川大学物理科学与技术学院	1	1	1.0	1.0