Mg-Gd-Y系合金微弧氧化陶瓷层生长机理及耐蚀性

• 作者: 李建平 杨忠 王萍 郭永春
• 来源期刊: 硅酸盐学报
• 学科: 工学
• 关键词: 镁-钆-钇系合金 微弧氧化 生长机理 耐蚀性
• 年，卷（期）: 2010,（5）
• 所属期刊栏目: 研究论文,中文
• 页码范围: 903-907
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.45
• 字数: 4331字
• 语种: 中文

摘要

利用扫描电镜、X射线衍射等研究了Mg-11%Gd-1%Y-0.5%Zn(质量分数)合金微弧氧化陶瓷层的生长规律,分析了微弧氧化膜层相结构及不同生长阶段的耐蚀性.结果表明:在微弧氧化初期,膜层生长遵循直线规律,为典型的电化学极化控制的阳极沉积阶段;随处理时间的延长及膜层增厚,膜层生长符合抛物线规律,属微弧氧化阶段,较氧化初期比,生长速率慢;在弧光放电阶段,抛物线斜率增大,疏松层增厚,生长速率有所提高.微弧氧化疏松层主要以MgSiO3为主,致密层以MgO为主;微弧氧化各阶段,膜层耐蚀性随氧化时间增长而提高,到弧光放电阶段,耐蚀性有所降低.氧化时间为7～12min时,制备的膜层具有较好的耐蚀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李建平	西安工业大学材料与化工学院	150	842	15.0	21.0
2	郭永春	西安工业大学材料与化工学院	104	493	12.0	17.0
3	王萍	西安工业大学材料与化工学院	35	151	6.0	11.0
4	杨忠	西安工业大学材料与化工学院	88	438	11.0	17.0