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摘要:
对在γ射线辐照条件下的单结晶体管基区阻值进行了多点测量和实时监测.结果发现:单结晶体管基区电阻值随γ射线辐照剂量的增加,具有先减小后增大的规律.对比国内外相关实验结果,从γ射线与物质作用微观分析,证明位移效应是单结晶体管基区电阻在γ射线辐照下的主要效应,但它较电离效应具有一定滞后性.
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文献信息
篇名 硅单结晶体管γ射线辐照电阻变化规律研究
来源期刊 电子科技 学科 工学
关键词 单结晶体管(UJT) γ射线 实时监测 基区电阻
年,卷(期) 2010,(2) 所属期刊栏目 光电·材料
研究方向 页码范围 33-35
页数 3页 分类号 TN325
字数 2740字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1007-7820.2010.02.010
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 杜磊 西安电子科技大学大学技术物理学院 99 486 13.0 18.0
2 何亮 西安电子科技大学大学技术物理学院 36 212 7.0 14.0
3 包军林 西安电子科技大学大学微电子学院 43 306 10.0 16.0
4 赵鸿飞 西安电子科技大学大学技术物理学院 3 7 2.0 2.0
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研究主题发展历程
节点文献
单结晶体管(UJT)
γ射线
实时监测
基区电阻
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
电子科技
月刊
1007-7820
61-1291/TN
大16开
西安电子科技大学
1987
chi
出版文献量(篇)
9344
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31437
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